Zerspanen

Effizientere Waferinspektion

Dieses neue Inspektionsmikroskop verbesserte die Fehlerdetektion und bietet dem Anwender damit zuverlässigere Inspektionsergebnisse. Erreicht wird dies durch einen automatisch für die jeweils gewählte Vergrößerung optimierten Kontrast, den leichten Zugriff auf komplexere Kontrastmethoden sowie eine intuitive Bedienung. Dies minimiert die typischen Anwendungsfehler und die Prüfergebnisse sind weniger abhängig vom jeweiligen Bediener. Schon die kleine Grundfläche des neuen Gerätes (MX61) macht die Gestaltung von kosteneffizienten und praktischen Arbeitsplätzen deutlich einfacher. Durch das schlanke Stativdesign kann der Abstand zwischen Waferhandlingsystemen und dem Mikroskop reduziert werden, was nicht nicht nur ein schnelleres Waferhandling sondern auch das Risiko der Kontamination während dieses Ablaufs verringert. Zusätzlich verhindert die spezielle antistatische Oberfläche und der mehrfach abgedichtete Objektivrevolver die Ablagerung und Entstehung von Partikeln. Um bei jeder Vergrößerung automatisch den besten Kontrast und die beste Auflösung zu erhalten, öffnet und schließt sich die Aperturblende beim Objektivwechsel automatisch auf den für das Objektiv optimalen Wert. Darüber hinaus liefert der neu entwickelte Auflichtilluminator in Kombination mit den neuen Fluorit Objektiven einen bis zu zwei mal höheren Dunkelfeldkontrast als vergleichbare Mikroskope dieser Klasse. Optimierte Auflösung und herausragender Kontrast ermöglichen damit nicht nur einfacheres und schnelleres Erkennen von Fehlern, sondern machen auch die Arbeit am Mikroskop angenehmer für die Augen.st

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